- 服务市场
- 我们服务的市场 UHV Technology 为许多行业提供精密清洁和洁净室服务。 半导体制造 科研实验室 航空航天，国防 生命科学与医疗器械制造商。
- 自动双电弧喷涂（TWAS）和等离子喷涂
- 自动双电弧喷涂（TWAS）和等离子喷涂 双丝电弧喷涂（TWAS）系统使用两个大的铝丝线轴，它们被馈送到喷枪的尖端，然后施加高功率，这会导致铝丝产生电弧并熔化。使用不同的参数使粗糙度和涂层厚度达到所需水平。喷砂可以使我们达到250 –400微英寸，而TWAS涂层可以使您获得> 1000 µin。TWAS涂层的目的是增加零件的表面粗糙度（和表面积），以实现更好的沉积附着力并允许在零件上累积更多的沉积物。目的是使试验箱在两次湿法清洗之间达到目标寿命，从而提高设备利用率和正常运行时间。等离子喷涂涂层在零件上提供保护性涂层，以延长零件寿命或提供高纯度表面，以更好地控制腔室内的污染。
- 超声波清洗
- 超声波清洗 超声波清洗是在使用源为18兆欧的DIW进行的。
- 高压清洗
- 高压清洗 封闭的压力清洗装置可以有效地对带纹理的零件进行DIW冲洗。我们将其设置为600psi，并具有45度喷雾模式。
- 干冰清洗
- 干冰清洗 干冰清洗又称冷喷，是以压缩空气作为动力和载体，以干冰颗粒为被加速的粒子，通过专用的喷射清洗机喷射到被清洗物体表面，利用高速运动的固体干冰颗粒的动量变化、升华、熔化等能量转换，使被清洗物体表面的污垢、油污、残留杂质等迅速冷冻，从而凝结、脆化、被剥离，且同时随气流清除。不会对被清洗物体表面，特别是金属表面造成任何伤害，也不会影响金属表面的光洁度。
- 喷砂
- 喷砂-沉积去除 玻璃珠用于去除沉积物，而无需去除基础材料，从而延长了零件寿命。 根据需要遮盖软或硬零件。 零件根据需要进行软遮罩 去除沉积物和涂层 纹理到粗糙度规格 喷砂处理–符合规格的纹理 SiO2或SiC粗砂用于使表面粗糙以达到所需的粗糙度
- 化学清洗
- 化学清洗 UHV Technology使用多种化学方法从客户提供的屏蔽罩中安全去除沉积材料。 根据沉积的金属和堆叠结构选择化学物质。 我们的化学过程： 帮助延长客户高价值腔室组件的使用寿命 确保为存放贵金属的客户提供最高的回报率
- 干燥，检验和包装
- 干燥，检验和包装 干燥，检验和包装零件在冲洗后用N2干燥，然后用超高真空铝箔（UHVFOIL）包裹移至真空干燥箱进行最终干燥。在真空包装之前，使用Ar或N2吹扫袋子，以去除可能在密封时氧化零件表面的任何残留水分，所有清洗件将在无尘室进行组装包装。
